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鼎博app_优化创新环境和营商环境我国将持续加强知识产权保护

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本文摘要:杭州9月2日电(记者张泉)国家知识产权局局长申长雨2日在杭州召开的第十届中国知识产权年会上,中国继续坚定实施严格的知识产权保护制度,继续创造良好的创新环境和商业环境。

杭州9月2日电(记者张泉)国家知识产权局局长申长雨2日在杭州召开的第十届中国知识产权年会上,中国继续坚定实施严格的知识产权保护制度,继续创造良好的创新环境和商业环境。申长雨表达,我国将实行更严苛的商标侵权处罚性赔偿制度,加大对商标恶意注册和囤积行为的打击力度,同时加快专利法的修订,建立侵权处罚性赔偿制度和药品专利保护期赔偿制度,延长外观设计专利保护期,更好地保护专利权。

在审批业务层面,中国将继续提高知识产权审批质量和审批效率,提高专利、商标授权的及时性和权利稳定性,更好地满足社会需求。近年来,中国知识产权事业发展进入高速公路,知识产权创造质量、保护效果、运用效益和国际影响力不断提高:专利、商标年申请量稳居世界第一,知识产权保护社会满意度从2012年63.69分提高到2018年76.88分,世界知识产权组织发布的《2019世界创新指数报告》中,中国排名第14位,居中等收入经济体第一。实行严格的知识产权保护制度,不仅是我们履行国际义务的需要,也是建设创新型国家,实现自身发展的需要,是中国政府一贯的原则立场和既定方针。

申长雨说。与此同时,我国着眼于国际,加强知识产权保护国际合作,加快构建多边、周边、小多边、双边四边联动、协调推进的知识产权国际合作新结构。

据介绍,本届年会首次由中国专利信息年会和中国专利年会升级为中国知识产权年会,涵盖专利、商标、地理标志等多种知识产权,运营、服务、维权、立法、司法等多方面的内容。同时,专利信息服务和产品展览、商标展览和以地大物博、标新创新为主题的中国地理标志展览也将举行。


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